物理気相合成(PVD)による

ナノ超微粉末(50nm,100nm)

(数十nmを実現し、さらなる微粉化に挑戦中。)

<対応可能な標準スペック>

区  分

 

Si純度

粒子径(D50

2N

Si≧99.0%

3N

Si≧99.9%

4N

Si≧99.99%

超微粉末

 

  50nm(0.05µm)

 

 100nm(0.1µm)

 

ナノ級超微粉末の可能性に挑戦

◎物理気相合成(PVD)により、数十ナノ(nm)を実現。

 さらに、1桁レベルに挑戦中。 

製品詳細情報

名称:シリコンナノ超微粉末

  (ケイ素:Ultrafine Nano Silicon Powder)

形態:超微粉末

化学式:Si

CAS RN®7440-21-3

製造方法: 物理気相合成

                   (Physical Vapor Deposition : PVD)

カスタマイズ可能範囲:

   Si純度・不純物濃度・酸素濃度・結晶構造・

   粒子サイズ・粒子形状等、未だ開発途上。

   御社のニーズに合わせて、研究を進めます。

原産国:中国

最低出荷数量:1kg以上。

最大出荷数量:1,000kg/月程度

納期の目安:30日

製品に関するお問合せ

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