物理気相合成(PVD)による
ナノ超微粉末(50nm,100nm)
（数十nmを実現し、さらなる微粉化に挑戦中。）
＜対応可能な標準スペック＞
区 分
| Si純度 粒子径（D50） | 2N Si≧99.0% | 3N Si≧99.9% | 4N Si≧99.99% |
超微粉末
| 50nm(0.05µm) | 〇 | △ |
|
100nm(0.1µm) | 〇 | △ |
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ナノ級超微粉末の可能性に挑戦
◎物理気相合成(PVD)により、数十ナノ(nm)を実現。
さらに、１桁レベルに挑戦中。
製品詳細情報
名称：シリコンナノ超微粉末
（ケイ素：Ultrafine Nano Silicon Powder）
形態：超微粉末
化学式：Si
CAS RN®：1440-21-3
製造方法： 物理気相合成
(Physial Vapor Deposition : PVD)
カスタマイズ可能範囲：
Si純度・不純物濃度・酸素濃度・結晶構造・
粒子サイズ・粒子形状等、未だ開発途上。
御社のニーズに合わせて、研究を進めます。
原産国：中国
最低出荷数量：1kg以上。
最大出荷数量：1,000kg/月程度
納期の目安：30日
製品に関するお問合せ
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