直接窒化法による

　　　高純度/微細 窒化ケイ素(Si3N4)粉末

～耐熱性・靭性に優れるファインセラミックス焼結原料として最適～

窒化ケイ素（Si3N4）粉末

＜製品事例＞

■ α相/β相 窒化ケイ素（Si3N4）粉末

Si3N4純度：

　　　Si3N4≧ 99.9%

α/β化率：

　　　α相 > 90.0%

　　　β相 > 99.0%

粒子径：

　　　D50=1µm～30µm

　　　ミクロンスケールで、

　　　粒度カスタマイズに対応。

ＳＥＭ画像：ジェットミル粉砕粉末

COA (Si3N4 Powder)

製品仕様

α>90%:1µm

α>90%:6µm

β>99%:1µm

β>99%:6µm

Si3N4純度(%)

≧99.9

≧99.9

≧99.9

≧99.9

相含有量(%)

α>90

α>90

β>99

β>99

Si(%)

59.2

59.2

58.76

58.75

N(%)

39.0

39.1

38.7

38.7

不純物濃度(*1)

    

   Fe(ppm)

　　　45

　　　47

　　　81

　　　83

  Al(ppm)

　　　14

　　　14

  　　　5

　　　  5

  Ni(ppm)

　　　11

　　　12

　   　<5

　　　<5

  W(ppm)

 　　　9

　　　 9

　 　<10

 　　<10

  Zn(ppm)

　  　<1

　　  <1

　　  <5

　  　<5

  Ca(ppm)

　　  <1

　　  <1

　　  <5

　　  <5

     

酸素・炭素濃度

(*2)

    

　O(%)

　　1.16

　　1.15

　　1.11

　　1.12

　C(%)

　　0.06

　　0.06

　　0.12

　　0.13

     

粒度分布(*3)

    

 D10(µm)

　　0.40

　　0.37

　　0.63

　　0.44

 D50(µm)

　　1.42

　　6.59

　　1.33

　　6.88

 D90(µm)

　　5.07

 　 19.18

　　5.65

　  17.46

     

比表面積(*3)

    

  m2/g

　　2.39

　　1.69

　　1.82

　　1.46

     

(*1)：ICP-OES

(*2)：赤外線吸収法

(*3)：レーザー回析法

製品詳細情報

名称：窒化ケイ素（Silicon Nitride）  

形態：粉末（Powder）

化学式：Si3N4

CAS RN® ：12033-89-5 

製造方法：直接窒化法

カスタマイズ可能範囲：

                粒子径：D50=1µｍ-30µｍ程度。

原産国：中国

最低出荷数量：1kg以上。

最大出荷数量：30トン/月程度。

納期の目安：30日

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